KIST 마이크로나노팹센터는 반도체, 센서, 양자 소자 등 초미세 공정 분야를 지원하는 국가 핵심 인프라입니다. 최첨단 클린룸과 고해상도 노광·식각·증착
인프라를 갖추고 단순 장비 활용을 넘어 센터의 숙련된 노하우를 바탕으로 ‘공정 설계부터 제작’까지 전 과정을 지원합니다.
특히 자체 팹(Fab) 구축이 어려운 중소·벤처기업과 대학 등에 단위공정 및 맞춤형 공정 서비스와 시제품 제작 컨설팅을 제공합니다.
KIST 마이크로나노팹센터는 연구자들에게는 한계 없는 실험의 장을, 기업들에게는 기술 혁신의 발판을 제공하는 역할을 수행합니다.

MEMS/NEMS 기술을 이용한 마이크로/나노 소자 연구개발 및 기술 지원
장비소개 : 64대 구축
리소 : Maskless Aligner, EVG Aligner, E-beam lithography 등
증착 : Multi Sputter, PECVD, E-Beam Evaporator, Parylene coater 등
식각 : 클러스터 ICP 건식식각, Deep Trench RIE, Oxford ICP Etcher, RIE 등
측정 : ALPHA STEP 등
기타 : M-2000 Laser, Wafer Bonder 등